a.波前畸變測量

　　設備名稱：數字式波面干涉儀

　　

　　測試波長范圍：633nm和1064nm

　　測試尺寸范圍：Φ3mm~10mm×20mm~150mm@1064nm；

　　Φ3~100mm×250mm@633nm

　　測量精度：λ/12@1064nm；

　　λ/20@633nm

　　應用范圍：測量能夠透過1064nm光和633nm光的晶體波前畸變，例如：Ho：Cr：Tm：YAG、Er：YAG等。

　　b.消光比測量：

　　設備名稱：消光比測試系統

　　

　　測試波長范圍：633nm和1064nm

　　測試尺寸范圍：Φ3mm~10mm×250mm

　　測量誤差：≤±5%

　　應用范圍：測量能夠透過1064nm光和633nm光的晶體的消光比，例如：Ho：Cr：Tm：YAG、Er：YAG等。

　　c.角度測量：

　　設備名稱：高精度測角儀

　　

　　測試范圍：直徑≥Φ3mm

　　測量精度： ≤0.3"

　　應用范圍：測量具有一定反光率的平面固體的幾何角度，例如：晶體棱鏡，金屬多面體等。

　　d.面型測量：

　　設備名稱： ZYGO平面干涉儀

　　

　　測試范圍：Φ3mm~100mm

　　測量精度：≤λ/20@633nm

　　應用范圍：晶體樣品的表面加工面型的精確測量。

　　e.應力測量：

　　設備名稱：DIAS-1600數字式應力儀

　　測試范圍：Φ5mm~60mm

　　測量精度：±6nm

　　應用范圍：測量樣品的微量應力大小及應力分布。

　　f.光譜測量：

　　設備名稱：LAMBDA950分光光度計

　　測量范圍：

　　波長范圍：185nm~3300nm，

　　尺寸范圍：Φ3mm~20mm×40mm@透過率

　　Φ5mm~20mm×90mm@反射率

　　測量精度：±0.1nm

　　應用范圍：樣品0-60度透過率的測量，樣品6-68度反射率的測量，樣品漫反射測量，偏振光p和s光的透過和反射測量。

　　g.激光損傷閾值測試

　　設備名稱：抗光損傷閾值測試系統

　　測量范圍：

　　波長：1064nm，

　　脈寬：10ns，

　　功率密度：600MW/cm2 ~ 2000 MW/cm2

　　功率波動：≤±5%

　　應用范圍：膜層抗光損傷閾值的測量，晶體材料抗光損傷的測量。

　　h.單程損耗測試

　　設備名稱：單程損耗測試系統

　　

　　測量范圍：

　　波長范圍：1064nm

　　尺寸范圍：Φ4mm~20mm×250mm

　　測量誤差：≤±10%

　　應用范圍：測量晶體材料在1064nm波長激光單次通過后造成的光能量損耗。